QCZ系列氫氣凈化設(shè)備
一、原理：
在水電解過程中，由于石棉隔膜并不能*阻隔氫氣和氧氣的相互滲透，特別是在氫與氧兩側(cè)壓力相差大的情況下，而且電解液是不斷循環(huán)的，在分離器里，氫氣、氧氣和電解液是很難達到完全分離，所以用水電解法制得的氫氣里，含有雜質(zhì)氧，一般在0.2%以下。又由于制氫過程是氣液共存的，所以氫氣中還存有飽和含水量。
QCZ系列氫氣純化裝置以水電解氫氣為原料氫氣進入純化裝置的氣水分離器，分離去游離子水后進入脫氧器,在鈀鉑觸媒催化劑的作用下,使原料氫中的雜質(zhì)氧與氫反應(yīng)生成水汽。脫除雜質(zhì)氧后，經(jīng)氫氣冷卻器和氫氣冷凝器（使用冷卻水）及自動氣水分離器，分離去游離的凝水，然后進入分子篩吸附干燥器（I）去濕，再通過壓力調(diào)節(jié)閥調(diào)定純化工作壓力和通過高效過濾器除塵，獲得純氫產(chǎn)品。
注：根據(jù)實際操作使用情況，加熱溫度、再生吹冷時間、閥門切換時間可作適當調(diào)整。并也可按露點值決定閥門的切換時間。還可以根據(jù)客戶需要在裝置出口添加在線分析儀（微水儀、微氧儀）自動檢測的產(chǎn)品氫純度。一旦氫氣不合格會報警，并由放空閥放空，待問題解決合格后又自動恢復生產(chǎn)合格的純氫產(chǎn)品。
二、裝置要求
1. 工藝要求：
氫氣經(jīng)純化后雜質(zhì)含量應(yīng)控制為：
H2≥99.999%
水氣（H2O）≦-65℃
氧含量（O2） ≦1ppm
粉塵：氫氣干燥后，要求加絲網(wǎng)目≦1μ的過濾器。
凈化時氫氣消耗量：
（我公司為三塔流程氣體再生時無氫氣排放，氫氣消耗量為零 ）。
送出界區(qū)壓力：≥0.8-1.6MPaG

2.適用標準、規(guī)范
GB3863《工業(yè)用氣態(tài)氧》
GB3864《工業(yè)氫氣》
GB4962《氫氣使用安全技術(shù)規(guī)程》
GB50177《氫氧站設(shè)計規(guī)范》
GB50058《爆炸和火災(zāi)危險環(huán)境電力裝置設(shè)計規(guī)范》
GB7251《低壓成套開關(guān)柜》
GB150《鋼制壓力容器》
GB151《鋼制管殼式換熱器》
《鋼制壓力容器安全技術(shù)監(jiān)察規(guī)程》