當(dāng)前位置：首頁>行業(yè)資訊>智造新材申請粉末冶金單向離合器外環(huán)及其制造工藝專利
發(fā)布日期：2025-6-26 來源:金融界
金融界2025年6月20日消息，國家知識產(chǎn)權(quán)局信息顯示，江蘇智造新材有限公司申請一項名為“一種粉末冶金單向離合器外環(huán)及其制造工藝”的專利，公開號CN120175764A，申請日期為2025年03月。
專利摘要顯示，本發(fā)明提供一種粉末冶金單向離合器外環(huán)及其制造工藝，包括外環(huán)本體，外環(huán)本體內(nèi)側(cè)設(shè)有用于同心設(shè)置內(nèi)環(huán)的空腔，外環(huán)本體內(nèi)壁上沿周向均勻設(shè)有多個限位槽，限位槽內(nèi)設(shè)有用于安裝彈片的*限位部以及用于安裝滾珠的第二限位部，滾珠限位部的工作面為曲面，曲面為偏心圓弧結(jié)構(gòu)、擺線圓弧結(jié)構(gòu)或者阿基米德螺旋線結(jié)構(gòu)，曲面與內(nèi)環(huán)之間的間距沿順時針方向逐漸減小，彈片自然狀態(tài)下驅(qū)使?jié)L珠分別與曲面和內(nèi)環(huán)外壁面貼合。
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