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鋼研納克江蘇檢測(cè)技術(shù)研究院有限公司

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產(chǎn)品詳細(xì)
Plasma 2000(ICP-OES) 全譜電感耦合等離子體光譜儀

Plasma 2000(ICP-OES) 全譜電感耦合等離子體光譜儀

產(chǎn)品型號(hào):Plasma 2000(ICP-OES)

參考價(jià)格:-

產(chǎn)地:江蘇

發(fā)布時(shí)間:2025-3-10 16:49:00

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產(chǎn)品介紹:
產(chǎn)品介紹
鋼研納克擁有35年電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀方法開發(fā)經(jīng)驗(yàn)
數(shù)十項(xiàng)ICP-OES檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)的起草單位
電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)GB/T36244-2018起草單位
Plasma 2000作為一款穩(wěn)健型的全譜型多元素分析儀器,啟動(dòng)時(shí)間短,分析速度快, 運(yùn)行成本低, 分析效率高,能夠適用于冶金、地質(zhì)、材料、環(huán)境、食品、醫(yī)藥、石油、化工、生物、水質(zhì)等各領(lǐng)域的元素分析。
Plasma 2000是一款高性價(jià)比的通用型元素分析利器,不管是第三方檢測(cè)實(shí)驗(yàn)室新入門的小白,還是生產(chǎn)質(zhì)檢部門資深的工程師,都是理想選擇。

Plasma 2000 電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀技術(shù)參數(shù)
1. 光學(xué)系統(tǒng):中階梯二維分光光學(xué)系統(tǒng),焦距400mm
2. 譜線范圍:165nm~950nm,光學(xué)分辨率:0.007nm(200nm處)
3. 光柵規(guī)格:中階梯光柵,52.67刻線/毫米,尺寸:100mm x 50mm
4. 晶體管固態(tài)射頻發(fā)生器,小巧高效
5. 27.12MHz頻率提高信噪比,改善了檢出限
6. 自動(dòng)匹配調(diào)節(jié)
7. 全組裝式炬管,降低了維護(hù)成本
8. 計(jì)算機(jī)控制可變速12滾軸四通道蠕動(dòng)泵,具有快速清洗功能
9. 實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)穩(wěn)定性良好:重復(fù)性 RSD ≤0.5% (1mg/L) (n=10);穩(wěn)定性:RSD ≤1.0%(500LOD) 

儀器優(yōu)勢(shì)與特點(diǎn)
穩(wěn)定的全固態(tài)光源,體積小、效率高,全自動(dòng)負(fù)載匹配,速度快、精度高,能適應(yīng)各種復(fù)雜基體樣品及有機(jī)油品的測(cè)試,具有長(zhǎng)期穩(wěn)定性。
中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu),更高的光路傳輸效率,多點(diǎn)充氣和立體控溫系統(tǒng)設(shè)計(jì),保障光學(xué)系統(tǒng)長(zhǎng)期穩(wěn)定無漂移。
無論是高基質(zhì)的海水還是揮發(fā)性的有機(jī)物,靈活選擇的各種進(jìn)樣系統(tǒng)滿足不同的應(yīng)用場(chǎng)景。
大面積背照式 CCD 檢測(cè)器 , 全譜段響應(yīng),高紫外量子化效率,抗飽和溢出,具有動(dòng)態(tài)范圍寬和信號(hào)處理速度快的優(yōu)勢(shì)。

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  • 主營(yíng)行業(yè): 粉末冶金檢測(cè)儀器
  • 經(jīng)營(yíng)性質(zhì):請(qǐng)?jiān)谙铝斜碇羞x擇
  • 地區(qū):江蘇
  • 友情鏈接:粉末冶金

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